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    四（甲乙胺）鉿

        

        
    

        
    
        
    關鍵詞：

        
    
        

        

        
    
        
    關鍵詞：

        
    
        
    MO源領域、電子級碘甲烷和氫碘酸領域、高科技合成酸領域、多元醇酯類冷凍機油領域

        

        
    
        
    所屬分類：

        
    

        
    
        
    
    


        
    
        
    產品咨詢：

        
    

        

        

        

        
    
        
    
        
    
        
    產品描述

        

        

        
    

        
    
        
	
		
        
			
			
        中文名
        
			        		
			
			
        化學式
        
			        		
			
			
        CAS號
        
			        		
			
			
        英文簡稱
        
			        		
			
			
        英文名
        
			        		
			
			
        類別
        
			        		
		
        
		
        
			
			
        四（甲乙胺）鉿
        
			        		
			
			
        C12H32HfN4
        
			        		
			
			
        352535-01-4
        
			        		
			
			
        TEMAH
        
			        		
			
			
        Ethanamine, N-methyl-,hafnium(4+) salt (4:1)
        
			        		
			
			
        前驅體
        
			        		
		
        
	        

        


         
        


          
        


        
	
		
        
			
			
        四（甲乙胺）鉿 （TEMAH）
        
			        		
		
        
		
        
			
			
        化學式
        
			        		
			
			
        C12H32HfN4
        
			        		
		
        
		
        
			
			
        中文名稱
        
			        		
			
			
        四（甲乙胺）鉿 
        
			        		
		
        
		
        
			
			
        英文名稱
        
			        		
			
			
        Ethanamine, N-methyl-,hafnium(4+) salt (4:1)
        
			        		
		
        
		
        
			
			
        CAS No.
        
			        		
			
			
         352535-01-4
        
			        		
		
        
		
        
			
			
        分子量
        
			        		
			
			
        410.9
        
			        		
		
        
		
        
			
			
        應用
        
			        		
			
			
        主要用于CVD和ALD的前驅體材料，用于沉積鉿的前驅物，制備鉿氧化物薄膜；可以用于COMS和下一代DRAM的高k絕緣材料，廣泛應用于45nm下直至7nm技術等先進CMOS集成電路技術中。其應用于新型阻變/憶阻器件(RRAM)研究中，可展現良好的微縮特性，還可在10nm尺度下保持良好的阻變特性；在鐵電存儲器件(FeRAM)、鐵電場效應晶體管(FeFET)、鐵電負電容晶體管(NC-FET)、鐵電隧道結等新功能器件制造方面表現出良好的微縮特性，為類腦型神經形態計算等變革性技術研究與發展提供新的途徑。還可替代二氧化硅，作為金屬-氧化物-半導體場效應晶體管(MOSFET)的柵極。
        
			        		
		
        
		
        
			
			
        產品規格
        
			        		
			
			
        6N（99.9999%）
        
			        		
		
        
	        

        


        

        
 
        

        
    
        
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